光學膜厚測量儀采用的是一種XRF光譜分析技術，X光管產生的X射線打到被測樣品時可以擊出原子的內層電子，出現殼層空穴，當外層電子從高軌道躍遷到低能軌道來填充軌道空穴時，就會產生特征X射線。X射線探測器將樣品元素的X射線的特征譜線的光信號轉換成易于測量的電信號來得到待測元素的特征信息。

　　使用光學膜厚測量儀的注意事項有以下三點：

　　一、注意保持試件表面的清潔和平整

　　的光學膜厚測量儀是一個非常精密的儀器，如果我們要想我們的測量數據能夠保持的話，就要保持試件表面的清潔，及時的處理掉試件表面的附著物如泥土、油污等，因為光學膜厚測量儀對于試件的表面變化是比較敏感的所以我們一定要保持測量表面是處于一個平整的狀態。

　　二、測量的次數與讀數要有一定的可靠性

　　我們在進行測量時不能夠草草了事，單憑一次的測量以及單一的數據是沒有足夠的可靠性和說服力的，必須要做到科學的抽樣測量，對于不同的地點進行測量并在在一定的面積之內取出不同的測量讀數，這樣才能我們的光學膜厚測量儀能夠有做好的效果。

　　三、注意測量的方法要得當

　　測量時要能夠有得當方法才能夠測量出足夠的數據，首先要注意對于測頭相對于試件的壓力，保持好恒定的壓力以免對于測量數據造成影響，還有就是要測量的使用姿勢事正確的，使得光學膜厚測量儀的測頭與試件保持一個垂直的狀態。