光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x采用的是一種XRF光譜分析技術(shù)，X光管產(chǎn)生的X射線打到被測(cè)樣品時(shí)可以擊出原子的內(nèi)層電子，出現(xiàn)殼層空穴，當(dāng)外層電子從高軌道躍遷到低能軌道來(lái)填充軌道空穴時(shí)，就會(huì)產(chǎn)生特征X射線。X射線探測(cè)器將樣品元素的X射線的特征譜線的光信號(hào)轉(zhuǎn)換成易于測(cè)量的電信號(hào)來(lái)得到待測(cè)元素的特征信息。

　　使用光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x的注意事項(xiàng)有以下三點(diǎn)：

　　一、注意保持試件表面的清潔和平整

　　的光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x是一個(gè)非常精密的儀器，如果我們要想我們的測(cè)量數(shù)據(jù)能夠保持的話，就要保持試件表面的清潔，及時(shí)的處理掉試件表面的附著物如泥土、油污等，因?yàn)楣鈱W(xué)膜厚測(cè)量?jī)x對(duì)于試件的表面變化是比較敏感的所以我們一定要保持測(cè)量表面是處于一個(gè)平整的狀態(tài)。

　　二、測(cè)量的次數(shù)與讀數(shù)要有一定的可靠性

　　我們?cè)谶M(jìn)行測(cè)量時(shí)不能夠草草了事，單憑一次的測(cè)量以及單一的數(shù)據(jù)是沒(méi)有足夠的可靠性和說(shuō)服力的，必須要做到科學(xué)的抽樣測(cè)量，對(duì)于不同的地點(diǎn)進(jìn)行測(cè)量并在在一定的面積之內(nèi)取出不同的測(cè)量讀數(shù)，這樣才能我們的光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x能夠有做好的效果。

　　三、注意測(cè)量的方法要得當(dāng)

　　測(cè)量時(shí)要能夠有得當(dāng)方法才能夠測(cè)量出足夠的數(shù)據(jù)，首先要注意對(duì)于測(cè)頭相對(duì)于試件的壓力，保持好恒定的壓力以免對(duì)于測(cè)量數(shù)據(jù)造成影響，還有就是要測(cè)量的使用姿勢(shì)事正確的，使得光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x的測(cè)頭與試件保持一個(gè)垂直的狀態(tài)。