改變橢偏儀入射角的方法有兩種
2019-12-25
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自動光譜橢偏儀光譜范圍覆蓋從深紫外到可見光再到近紅外.深紫外波長非常適合測量超薄薄膜，比如納米厚度薄膜厚度，比如硅晶圓的薄膜厚度，典型值在2nm左右。對于測量許多材料的帶隙，深紫外光譜橢偏儀也非常重要。
橢圓偏振技術是通過研究光束在樣本表面反射后偏振態(tài)變化而獲得表面薄膜厚度等信息的薄膜測量技術。
與反射計或反射光譜技術不同的是，光譜橢偏儀參數(shù)Psi和Del并非在常見入射角下獲得。通過改變入射角大小，可獲得許多組數(shù)據(jù)，這樣就非常有助于優(yōu)化橢偏儀測量薄膜或樣本表面的能力，因此變角橢偏儀功能遠遠大于固定角橢偏儀。
改變橢偏儀入射角的方法有兩種，一種是手動調節(jié)，一種是自動調節(jié)入射角，我們可提供兩種模式的橢偏儀。
橢偏儀特點：
1、易于安裝
2、基于視窗結構的軟件，很容易操作
3、的光學設計，以確保能發(fā)揮出*的系統(tǒng)性能
4、能夠自動的以0.01度的分辨率改變入射角度
5、高功率的DUV－VIS光源，能夠應用在很寬的波段內
6、基于陣列設計的探測器系統(tǒng)，以確保快速測量
7、多可測量12層薄膜的厚度及折射率
8、能夠用于實時或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率等參數(shù)
9、系統(tǒng)配備的光學常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫
10、對于每個被測薄膜樣品，用戶可以利用的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫、也可以進行色散或者復合模型（EMA）測量分析；
11、三種不同水平的用戶控制模式：模式、系統(tǒng)服務模式及初級用戶模式
12、靈活的模式可用于各種*的設置和光學模型測試
13、健全的一鍵按鈕(Turn－key)對于快速和日常的測量提供了很好的解決方案
14、用戶可根據(jù)自己的喜好及操作習慣來配置參數(shù)的測量
15、系統(tǒng)有著全自動的計算功能及初始化功能
16、無需外部的光學器件，系統(tǒng)從樣品測量信號中，直接就可以對樣品進行的校準
17、可精密的調節(jié)高度及傾斜度
18、能夠應用于測量不同厚度、不同類型的基片
19、各種方案及附件可用于諸如平面成像、測量波長擴展、焦斑測量等各種特殊的需求
20、2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數(shù)據(jù)管理界面。
